（A）隔振光學平臺GZ101PTB
特點：

• 隔振層利用固有頻率低、阻振的蜂窩結構材料
• 能限度控制振動的響應
• 隔振支架采用復合材料，固體阻尼隔振，結構穩固
• 適用于環境震動良好的實驗場所
• 調節支撐部分采用絲桿和平面推力球軸承，

使用時輕松

• 平面度：< 0.05mm/m2
• 表面粗糙度：0.8μm～1.6μm
• 固有頻率：3Hz～6Hz
• 振幅：< 5μm
• 大型光學隔振平臺，外框采用剛、變形小、焊接性能好的優質中碳鋼板
• 面板采用高導磁不銹鋼板，精磨后具有實用、美觀和等特點

（B）光學平板GZ102PTB
特點：

• 光學平板采用優質鋁材制造。與鋼材相比，鋁材
• 硬重比大，有的振性，溫度傳導性好

不良環境中溫度形變小，陽氧化后美觀。

• 有的振性，溫度傳導性好，不良環境中溫度
• 形變小，陽氧化后美觀，

（C）普通光學平臺GZ10TB
特點：

• 鐵磁不銹鋼臺面，的加工工藝更高的平面度，
• ，
• 表面陣列M6螺紋孔，孔距25mm，方便安裝固定器件
• 雙層結構，內芯采用蜂窩支撐，增加剛性，減少重量，振性好
• 平臺不平度：0.8-1.6mm/m2
• 平臺粗糙度：0.02-0.05 mm/m2
• 固有頻率：0.88-1.0Hz
• 振幅小于1μm
• 水平：0.04mm/ m2
• 工作壓力：0.2-0.5（Mpa）
• 可吸磁，配合磁力底座的使用可以在任意位置固定器件

（D）氣浮隔振光學平臺GZ104PTB
特點：

• 大型光學隔振平臺，外框采用剛、變形小、焊接
• 性能好的優質中碳鋼板
• 隔振層利用固有頻率低、阻振的蜂窩結構材料，
• 能限度控制振動的響應
• 空氣機氣源，噪聲低（小于65分貝）
• 調節支撐部分采用絲桿和平面推力球軸承，使用時輕松
• 平面度：< 0.05mm/m2
• 表面粗糙度：< 0.8μm
• 固有頻率：垂直1.2Hz～2.0Hz,水平1.2Hz～2.0Hz
• 振幅：< 1.2μm
• 空氣壓力：0.2-0.6（Mpa）
• 隔振支撐采用二層膜片囊，小孔空氣阻尼配合，隔振性
• 能，配有自動充氣系統，結構緊湊，穩定
• 面板采用高導磁不銹鋼板，精磨后具有實用、美觀和等特點

氣浮隔振光學平臺GZ104PTB-Ⅱ

說明
使用時注意事項

• 請勿用酸性液體清洗本產品，以免破壞產品表面質量。
• 請勿將本產品放置在高溫、潮濕及度振源處。
• 請勿用水沖洗本產品。
• 本產品長時間處于一種狀態下，請用水平儀調整臺面水平。
• 工作臺面上擱置的任何設備或工具，都須小心輕放，盡量 不要相對磨擦，以避免損傷工作臺面，降低使用。
• 工作臺面安裝孔，是用于固定設備的M6螺孔，使用時避免用力過大，影響工作臺。

產品特點

• 結構緊湊、穩定。
• 表面精密磨制、去除粗加工的痕跡、表面光滑、高。
• 采用寶塔氣囊、隔振性能。人性化設計理念，使用十分方便。
• 空氣壓縮機氣源，噪聲低（小于65dB）

與隔振

• 平面度不大于0.05mm/m2
• 表面粗糙度小于0.8um
• 固有頻率垂直方向小于1.6Hz，水平方向小于2Hz.
• 振幅不大于2um
• 重復定位&plun;0.2mm
• 調整和使用
• 調整前請用低纖維軟布擦凈工作臺面。
• 將標準水平儀放置在平臺中間部位。
• 接通空氣壓縮機電源（220V），打開電源開關進行試運轉。
• 將四個支撐腿連接固定（將支撐腿氣管與控制閥連接，控制閥與五通連接，五通與氣泵連接。）
• 將空氣壓縮機出氣管與平臺進氣口接通，打開電源開關。
• 調節控制閥，使支撐腿與平臺距離控制在10-20mm位置。
• 用力下壓平臺任何一角，松開后看水平儀氣泡是否恢復初始狀態。
• 工作時臺面上擱置任何物品，請小心輕放，盡量避免相對磨擦，以免損傷工作臺面，降低使用。
• 長期不用本產品時，請關閉空氣壓縮機電源，拔掉電源插頭。
• 當您的工作不需要平臺隔振時，要關閉空氣壓縮機電源開關，打開排氣閥即可。

氣浮隔振光學平臺對比
相同之處

• 每個支架內有氣囊
• 平臺和支架接觸通過壓力軸承接觸
• 支架和臺面材料相同

不同之處

• 支架形狀不同
• 充氣方式不同，前者為每個支架單獨充氣，通過調節每個支架上的氣壓表操作調平工作（缺點是需要經常充氣放氣）后者為每個支架統一充氣，通過一個氣壓表調節每個支架的氣壓，以更好的隔振效果
• 充氣時間不同：前者在放氣太多的情況需要重新充氣，在經常實驗的環境下需要實時考慮平臺的，后者則可避免，次調好之后，鎖緊氣壓閥，總的氣壓會是一個恒定值，對調平工作帶來了很大的方便

（E）自水平隔振光學平臺GZ105PTB
特點

• 自動平衡系統：采用空氣伺服系統，自動調整水平
• 它的突出特點是把系統對微振的響應反饋到系統中
• 改變隔振特性，隔振效果，在載偏重的實驗條

件下，初始的平衡狀態

• 能限度控制振動的響應
• *隔振支撐采用二層膜片氣囊隔離，配合高阻尼小孔
• 隔振性能良好穩定，輕松調節，自動水平，自動充氣
• 采用空壓機氣源，噪聲低，適用于振動頻率

要求高的實驗場所

• 空氣機氣源，噪聲低（小于65分貝）
• 平面度：< 0.05mm/m2
• 表面粗糙度：< 0.8μm
• 固有頻率：垂直1.2Hz～1.8Hz,水平1.2Hz～1.8Hz
• 振幅：< 1.2μm
• 重復定位：+0.05mm
• 空氣壓力：0.2-0.6（Mpa）
• 大型光學隔振平臺，外框采用剛、變形小、焊接性能好的優質中碳鋼板
• 面板采用高導磁不銹鋼板，精磨后具有實用、美觀和等特點

自水平光學平臺與氣浮隔振光學平臺的區別分析

此圖為自水平光學平臺的示意圖，自水平光學平臺是從氣浮隔振光學平臺的基礎上進化過來的一種新型功能的產品，在氣浮的基礎上，通過在每個支架的氣囊上安裝控制閥設備，控制閥與氣泵裝置支架通過氣管相連，由于控制閥之間的相連結構，使得他們之間需要一個平衡性，如果某一側重物使勁后，控制閥之間將會立即尋找以前調節好的平衡點，自動打開氣閥進行充氣或放氣，以終的平衡。