- 品牌/商標：OSK
- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
無掩模光刻機
無掩膜光刻機 型號 DS-2000/1.0型
1．技術特征 采用DMD作為數字掩模，像素1024×768
采用1倍縮小投影光刻物鏡成像，曝光面積約14mm×10mm
采用技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。
采用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現工件定位和曝光拼接，
可適應100mm×100mm基片。
2．技術參數
光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；
照明均勻性：±2%； 物鏡倍率：1倍
曝光場面積：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件臺運動范圍：X：100mm、 Y：100mm；
工件臺運動定位：±1.5μm；
調焦臺運動靈敏度：1μm；
調焦臺運動行程：6mm 轉動臺行程：±6°以上
基片尺寸外徑: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) ×830mm（高）
無掩模光刻機系統(tǒng)關鍵技術：曝光光學系統(tǒng)、光勻化技術、圖形發(fā)生器、投影物鏡、對焦系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、精密工件臺、步進拼接、控制軟件等
應用領域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統(tǒng)、微光學元件、紅外探測器、生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導陣列光刻、液晶顯示、聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、
碼盤刻劃等
