元素分析范圍:從K到U
性可同時分析多層鍍層
分析厚度檢測出限達(dá)0.01um
同時可分析多達(dá)5層以上鍍層
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型,先進(jìn)厚度分析方法
多次測量重復(fù)性可達(dá)0.01um
長期工作穩(wěn)定性小于0.1um(5um左右單鍍層樣品)
溫度適應(yīng)范圍:15℃~30℃
輸出電壓220±5V/50HZ(建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源)配置
開放式樣品腔
二維移動樣品平臺
探測器和X光管上下移動可實現(xiàn)三維移動
雙激光定位裝置
準(zhǔn)直器自動切換裝置
玻璃屏蔽罩
正比計數(shù)盒探測器
信號檢測電子電路
高低壓電源
X光管
計算機(jī)及噴墨打印機(jī)
樣品腔尺寸:517mm×352mm×150mm
外型尺寸:648mm×490mm×544mm


