美國NANOVEA納米壓痕儀
簡介:美國NANOVEA公司是一家公認的壓痕測試儀的領航者,生產的壓痕測試儀是目前國際上用在科學研究和工業領域先進的設備。
主要應用:
半導體技術(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads);存儲材料(磁盤的保護層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護層);光學組件(接觸鏡頭、光纖、光學刮擦保護層);金屬蒸鍍層;防磨損涂層(TiN, TiC, DLC, 切割工具);藥理學(藥片、植入材料、生物組織);工程學(油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS)等行業;
技術特點:
主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測試,測試結果通過力與壓入深度的曲線計算得出,無需通過顯微鏡觀察壓痕面積。
•完全符合ISO14577、ASTME2546
•光學顯微鏡自動觀察
•獨特的熱漂移控制技術
•可硬度、剛度、彈性模量、斷裂剛度、失效點、應力-應變、蠕變性能等力學數據。
•適時測量載荷大小
•采用獨立的載荷加載系統與高分辨率的電容深度傳感器
•快速的壓電陶瓷驅動的載荷反饋系統
•雙標準校正:熔融石英與藍寶石
技術參數:
• 加載載荷:400mN
• 載荷分辨率:30nN
• 可實現的小載荷:1.5µN
• 位移分辨率:0.003nm
• 可實現的自小位移:0.04nm
• 可實現的位移:250µm
• 熱飄逸<0.05nm/s(室溫條件下)
• DMA模式:20HZ




