產品特色：
薄膜到厚膜的寬測量范圍。
利用反射率光譜解析膜厚。
功能齊全，低價格並不影響高測量的表現。
設定與操作的簡易化，短時間內即可上手。
提供價格優惠的固定平臺與可自動對位平臺兩種規格。
非線性小二乘法、PV法、FFT法等多種膜厚測量手法。
以非線性小二乘法、解析光學常數(n:折射率，k:衰減系數)。
測量項目：
反射率分析 |
多層膜解析(5層) |
光學常數解析（n:折射率，k:衰減系數） |
應用范圍：
■光學薄膜(AR膜、ITO膜等)
■半導體晶圓(光阻、SOI、SiO2等)
規格樣式：
| 手動型 | 自動型 | ||
對應樣品尺寸 | 200mm× 200mm | φ300mm | ||
對應膜厚 | 厚膜 | 薄膜 | 厚膜 | 薄膜 |
膜厚測量范圍 | 100nm～40μm | 10nm～20μm | 100nm～40μm | 10nm～20μm |
波長測量范圍 | 400nm～800nm | 300nm～800nm | 400nm～800nm | 300nm～800nm |
膜厚*1 | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm |
測量再現性*2 | ±0.05nm | ±0.03nm | ±0.05nm | ±0.03nm |
測量時間 | 0.1s～10s以內 | 0.1s～10s以內 | ||
測量口徑 | 約φ 1.2mm | 約φ 1.2mm | ||
自動對位功能 | 無 | 無 | 有 | 有 |
測量實例：
■PET基板上的DLC膜
■Si基板上的SiNx
