品牌：卡爾·蔡司

 型號：SUPRA 55 SAPPHIRE

 制造商：德國卡爾蔡司公司

【品牌故事】 
    世界光學品牌，可見光及電子光學的領導企業----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個：

   臺靜電式透射電鏡 (1949)
    臺商業化掃描電鏡 (1965)
    臺數字化掃描電鏡(1985)
    臺場發射掃描電鏡(1990)
    臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
    臺具有Koehler照明的 200kV 場發射透射電鏡(2003)
    臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡(2003)

    CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的設計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造先進的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到全世界廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準的CARL ZEISS將一路領跑高端電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。

【總體描述】

    SUPRA 55 SAPPHIRE是一款擁有第三代GEMINI鏡筒的高性能場發射電子顯微鏡，它有的擺動緩沖系統，并結合了5軸驅動載物臺，通過不斷變換電壓可以獲得很高的分辨率。對于使用者來說，SUPPRA 55 SAPPHIRE的系統功能強大，可以在性對不穩定的環境下完成檢測，完全分析型的場發射掃描電鏡探針電流可達到20nA，適用范圍如材料領域、半導體技術、生命科學和納米技術領域等。

    ZEISS的場發射掃描電鏡全部采用新一代鏡筒(GEMINI)設計，具有優良的高、低加速電壓性能。創新的InLens設計是目前世界上真正的內置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有的靈敏度和的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業界等級的分辨率和圖像質量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發射掃描電鏡創造性的采用電磁、靜電復合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。

【技術參數】
分辨率：   0.8nm@ 15KV    
           1.6nm @ 1KV           
           2.0nm @ 30KV(VP mode)
放大倍數： 12 - 1,000,000x
加速電壓： 0.02 - 30 KV
探針電流： 4 pA - 20 nA (12pA - 100 nA 可選)
樣品室：   330 mm (φ) x 270 mm (h)
樣品臺：   5軸優中心全自動 
                 X = 130mm 
                 Y = 130 mm 
                 Z = 50mm 
                 T = -3 to 70° 
                 R = 360°連續旋轉
系統控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系統,可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

 【產品應用】
      掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。