介 紹:
半導體激光打標機是使用波長為0.808um半導體激光二管泵浦Nd：YAG介質，使介質產生大量的反轉粒子在Q開關的作用下形成波長1.064um的脈沖激光輸出，電光轉換效率高。激光束通過電腦控制振鏡改變激光束光路實現自動打標。此種機器具有光斑小、打標精細度高、光斑穩定、速度快、打標效果易調試，且功耗低，加工成本低，重要光學部件均為歐美原裝，光路系統采用全密封結構可滿足連續24小時滿負荷運行。
特 點：
穩定性好
采用半導體技術取代傳統的電真空技術。激勵源采用大功率半導體列陣取代氪燈，大大延長了產品的壽命和系統的穩定性。
效率高
半導體泵浦激光打標系統輸出的光束質量遠高于普通激光系統（細線寬可0.015mm），加工效率和質量高于同等輸出功率的氪燈泵浦激光器。
高
半導體泵浦激光打標系統輸出光束質量更趨近理想模式，高的打標質量激光器可選配不同孔徑（0.8～2.6mm）的光闌,可獲得大小不同的光斑輸出，打標的。更適合于精細加工，小字尺寸可達0.2mm,使激光標記的一個新的數量級。
操作簡便
Windows XP 操作系統，打標軟件操作簡便，界面友好，具有強大的圖形自編及處理功能
速度快
采用精細的光學器件，其振鏡速度遠高于傳統激光系統。
能耗低
半導體激光打標系統應用半導體矩陣，使激光轉換效率大為，一般系統的能耗不過1500W，只是同等功率氪燈泵浦激光系統的四分之一。
性高
半系統集成度高，不需要高壓電源，高壓器件，大地系統性。
無耗材
需循環使用純凈水和普通濾芯，無須更換氪燈等其他耗材，降低了系統運行成本。
體積小
高度集成化的控制系統，有利于顧客更好地利用廠房空間(整機占地面積不到1.5M2)。
技術參數
| SW-DPLM75Ⅲ | ||
| 激光功率 | 75W | |
| 激光波長 | 1064nm | |
| 激光重復頻率 | 50Hz | |
| 標準打標范圍 | 100*100mm | |
| 選配打標范圍 | 50*50mm 150*150mm 200*200mm 300*300mm | |
| 光束質量 | 〈62 | |
| 打標深度 | ≤1.8mm | |
| 雕刻線速 | ≤7000mm/s | |
| 小線寬 | 0.015mm | |
| 小字 | 0.2mm | |
| 重復 | ±0.002mm | |
| 整機耗電功率 | ≤1.8kw | |
| 電力需求 | 220V±10%/50Hz/30A | |
| 激光模塊壽命 | >10000H | |
| 冷卻系統 | 水冷 | |
