技術指標： 晶體頻率： 6MHz（新晶體）~5MHz 頻率分辯率： 0.03Hz 膜厚分辯率： 0.132Å（鋁） 膜厚準確度： 0.5％典型，取決于過程條件，是傳感器的位置，材料應力，溫度和密度 頻率測量： 0.11Hz 膜厚測量： 0.1Å 速率測量 0.1Å/S 測量速率： 1~10次/S 測量通道數量： 單通道 用戶界面： 顯示儀或連接電腦操作 計算機通訊： RS232或RS485 外型尺寸： 96 x 45 x 18mm（長x寬x高） |
1、高測量。采用自有知識產權的高測頻技術，高集成度。 2、小型結構： 整機名片盒大小，小巧實用，價格低廉。 3、具有模擬量輸出接口，通過調節儀可對鍍膜源進行控制，構建鍍膜速率閉環控制系統，對鍍膜速率進行控制。 4、界面友好易操作。連接電腦或顯示器操作，操作方便。 |
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