尺寸:500 x 610 x 640 mm
重量:45Kg
類型:手動的
測量樣本大小:點 8", 12"
測量方法:無連接的
測量原理:反射計
特點: 測量，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
活動范圍:200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12")
測量范圍:100Å~ 35㎛(Depends on Film Te)
光斑尺寸:40㎛/20㎛, 4㎛(option)
測量速度:1~2 sec./site
應用領域:All Capability of ST2000 & More Precision Measurement
Intended for Wafer Measurement & OLED
選項 Programmable Auto Z Stage
參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST)
焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明 12v 100W Halogen Lamp
重量:45Kg
類型:手動的
測量樣本大小:點 8", 12"
測量方法:無連接的
測量原理:反射計
特點: 測量，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
活動范圍:200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12")
測量范圍:100Å~ 35㎛(Depends on Film Te)
光斑尺寸:40㎛/20㎛, 4㎛(option)
測量速度:1~2 sec./site
應用領域:All Capability of ST2000 & More Precision Measurement
Intended for Wafer Measurement & OLED
選項 Programmable Auto Z Stage
參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST)
焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明 12v 100W Halogen Lamp
