尺寸:1100 x 1250 x 1550 mm
重量:400kg
類型:自動的
測量方法:無連接的
測量原理:反射計
特征:測量，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
的重復性和再現性
2D／3D 映射和造型
自動機械活動控制
電荷耦合器件照相機
自動調焦
活動范圍:300mm x 300mm
測量范圍:100Å～ 35㎛（Depends on Film Te）
光斑尺寸:40㎛／20㎛，4㎛（option）
測量速度:1～2 sec。／site（fitting time）
應用領域:All Capability of ST2000 ＆ More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measurement
選擇:Tranittance Module
Reference Sample（K-MAC or KRISS or NIST）
接物鏡旋轉器:Quintuple Revolving Nosepiecs
焦點:Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明:12v 100W Halogen Lamp
重量:400kg
類型:自動的
測量方法:無連接的
測量原理:反射計
特征:測量，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
的重復性和再現性
2D／3D 映射和造型
自動機械活動控制
電荷耦合器件照相機
自動調焦
活動范圍:300mm x 300mm
測量范圍:100Å～ 35㎛（Depends on Film Te）
光斑尺寸:40㎛／20㎛，4㎛（option）
測量速度:1～2 sec。／site（fitting time）
應用領域:All Capability of ST2000 ＆ More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measurement
選擇:Tranittance Module
Reference Sample（K-MAC or KRISS or NIST）
接物鏡旋轉器:Quintuple Revolving Nosepiecs
焦點:Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明:12v 100W Halogen Lamp
