紫外光臭氧清洗系統
　　THEMIS深度紫外臭氧清洗與反應系統，是一部應用深度紫外輻射（主要光波是184.9nm及253.7nm）表面原子級潔凈以及對物件產生光清洗、光化學反應、光改質等效應的科學設備，由中科院與芬蘭資深合作設計，重要部件的制造以及調校由航天部工程師親自完成。
　　產品參數介紹：
　　型號  UVO-4  UVO-8
　　UV光波  253.7nm和184.9nm
　　清洗面積  12cm×12cm（4.5inch）  20cm×20cm（8inch）
　　光照強度  達50mW/cm2，實時顯示
　　時間設置  0-9999s任意設置，實時數字顯示
　　溫度  0.1℃，實時數字顯示，可平滑控制
　　物臺調高  范圍：0mm～35mm，：1mm
　　燈管材質  固態金屬雙波汞燈
　　燈管功率  125W  250W
　　燈管形狀  格柵式燈管
　　燈管壽命  10000小時
　　整機尺寸  550mm寬×310mm高×670mm長
　　警示保護功能  有
　　臭氧排風系統  有
　　電源參數  220V/AC/50Hz
　　整機功率  150W  280W
　　整機重量  25KG
　　應用領域  ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理，液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等物去除，性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。還能對特定材料進行表面改性，增加浸潤性。