EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀
　　
　　EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀（噴金儀）。EMS-575T樣本放置在旋轉樣品臺上（the rotary stage），蓋好蓋子（the chamber lid），按下啟動按鈕，渦輪分子泵開始加速，5秒鐘后，機械泵開始啟動，同時十秒氣體排空程序啟動，兩個泵同時運行一個高真空。當渦輪泵加速，它的速度由柱狀圖來標示，到達速度的一半時，真空計扭至自動狀態。當腔內氣體壓降為10-4 mbar，排氣開始，腔內氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間，排氣的后階段，靶材按照預訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的，不需要關泵，繼續濺射另一種金屬。噴鍍完成后，兩個泵停止，排氣閥排氣。
　　儀器質保期2年。模塊化的單元結構使得儀器維護方便，摘掉問題模塊，換上無問題的模塊，儀器即可很好的運行，一點不會耽誤實驗進程。
　　
　　性能特征：
　　全自動一鍵式操作，微處理器數字控制方式，可預設參數
　　LCD屏實時顯示狀態參數
　　質保期：標準保修期為一年
　　高分辨率精細鍍層（不過0.5nm的鉻顆粒大小）
　　薄金屬鍍層，典型5nm厚
　　渦輪分子泵
　　Peltier冷卻雙濺射頭，無需冷卻水
　　雙濺射頭：真空條件下，可順序濺射兩種不同的材料，對于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品適用
　　磁控濺射靶源設計
　　旋轉機械泵為備用泵，機械泵為外部安裝式
　　儀器參數：
　　
　　儀器尺寸 450mm（W）x 350mm（D）x 175mm（H）
　　工作腔室硼硅酸鹽玻璃：165mm（Dia.）x 125mm（H）
　　加不銹鋼底座 110mm（Dia.）x 115mm（H）
　　重量 42Kg
　　靶材 54mm（Dia.）x 0.2mm（Thick）（標準鉻靶材和金靶材）
　　樣品臺 60mm（Dia.），以60 r.p.m 旋轉，的傾斜度
　　真空泵工作范圍（Penning）ATM to 1x10-7 mbar，鍍膜腔體限真空度10-7 mbar
　　操作真空 1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar
　　濺射電流 0-175mA
　　濺射時間 0-4 minutes
　　功率 1000V at 100 ma，100 watts
　　沉積速率 30nm/min at 100mA
　　渦輪分子泵 60 litres/Second（Ultimate vacuum 1x10-8 mbar）
　　電源配置 230 volts 50Hz（6 AMP Max incl pump）
　　Services Argon＆shy；Nominal 4 psi
　　真空泵（推薦配件）附帶真空管和油氣過濾器