產品說明: . 中頻交流磁控濺射鍍鏌:HC系列真空膜機,采用的中頻交 流磁控濺射鍍膜技術。 . 中頻交流磁控濺射鍍膜技術的優點: . 蒸發速率與離化率高,穩定不容易中毒。 . 膜層細膩致密,可穩定控制膜厚和顏色。 . 沈積反應膜層,穩定。 . 可廣泛多樣地交聯搭配濺射耙的安裝方式。 . 可廣泛多樣地任意選擇耙材:使用導電材料與非導電材料靶 材,或不同靶材同時工作蒸發,或的鑲嵌復合靶鍍膜的 技術。 . 濺射靶的設計,的結構,嚴格的磁場分配,合理的 水冷卻,經過嚴密的氦氣測漏儀真空檢漏,長時間工作穩定 ,靶材利用率高。 . 簡便的安裝設計與容易的保養維修,備件互換性好。系統展 。







