我以NPN三管為例為你說明三管的原理:
先三管是由兩個P-N結夠成,NPN三管就是兩頭是N型,中間是P型。N端為電子端,P端為空穴端
在制造三管時,要把發射區的N型半導體電子濃度做的很大,基區P型半導體做的很薄,當基的電壓大于發射電壓(硅管要大0.7V,鍺管要大0.3V)而小于集電電壓時,這時發射區的電子進入基區,進行復合,形成IE;但由于發射區的電子濃度很大,基區又很薄,電子就會穿過反向偏置的集電結到集電區的N型半導體里,形成IC;基區的空穴被復合后,基的電壓又會進行補給,形成IB。
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先三管是由兩個P-N結夠成,NPN三管就是兩頭是N型,中間是P型。N端為電子端,P端為空穴端
在制造三管時,要把發射區的N型半導體電子濃度做的很大,基區P型半導體做的很薄,當基的電壓大于發射電壓(硅管要大0.7V,鍺管要大0.3V)而小于集電電壓時,這時發射區的電子進入基區,進行復合,形成IE;但由于發射區的電子濃度很大,基區又很薄,電子就會穿過反向偏置的集電結到集電區的N型半導體里,形成IC;基區的空穴被復合后,基的電壓又會進行補給,形成IB。