小型離子濺射儀 型號(hào):M31/SD-900小型離子濺射儀 型號(hào):M31/SD-900

原理：

依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自

動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離

特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。

參數(shù)：

? 主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

? 靶（部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

? 靶材：Au（配）

? 樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）

? 靶材尺寸：Ф 50mm

? 真空指示表： 高真空度：≤ 4X10-2 mbar

? 離子電流表： 大電流：50mA

? 定時(shí)器： 長(zhǎng)時(shí)間：0-360

? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管

? 可通入氣體： 多種

? 高電壓： -1600 DCV

? 機(jī)械泵：準(zhǔn)配置 2L/（國(guó)產(chǎn) VRD-8）

用途：

適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（EM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

3、ETPLAMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。

4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。

5、同時(shí)可以通過(guò)換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到細(xì)顆粒的涂層。

6、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到純凈的涂層。

技術(shù)規(guī)格 參數(shù)

主機(jī) 300mm×360mm×380mm（W×D×H）

真空規(guī) 皮拉尼真空計(jì)

靶（部電極）尺寸 Φ50mm×0.1mm（D×H），Au（配）

樣品室尺寸 160mm×120mm（D×H），硼硅酸鹽玻璃

濺射面積 Φ50mm

高真空度 ≤4×10-2mbar

大電流 50mA

定時(shí)器時(shí)間 0-360s

微型真空氣閥 可連接φ3mm軟管

可通入氣體 多種

高電壓 -1600DCV

電源 220V AC,50Hz接地三腳插頭

機(jī)械泵 2L/

重量 ~20Kg

小型離子濺射儀 型號(hào):M31/SD-900小型離子濺射儀 型號(hào):M31/SD-900