IKN掩蔽劑實驗室高速納米乳化機

掩蔽劑是指用以掩蔽干擾離子的試劑。分析化學中的所謂“掩蔽”，是指離子或分子無須進行分離而僅經過一定的化學反應(通常是形成絡合物)即可不再干擾分析反應的過程。對于有干擾的離子或分子，如不用分離的方法,則**借助于掩蔽手段。常用的掩蔽劑有無機掩蔽劑和有機掩蔽劑兩大類。有機掩蔽劑品種更多，效果更好，得到了更多的研究和應用。

基本簡介

分析化學中的所謂“掩蔽”，是指離子或分子無須進行分離而僅經過一定的化學反應(通常是形成絡合物)即可不再干擾分析反應的過程。對于有干擾的離子或分子，如不用分離的方法,則**借助于掩蔽手段。一些有機染料結合了一些過渡金屬離子后，可以在一定波長的光線（如紫外線）照射下發光，一旦將其中的過渡金屬離子移走，體系即失去發光的能力。能將過渡金屬離子從發光體系中奪走的物質就叫熒光掩蔽劑，通常是一些具有絡合能力的試劑，如EDTA等。

掩蔽原理

利用絡合反應、氧化還原反應或沉淀反應，消除干擾離子的試劑  。

1.絡合反應。如使用硫氰化鉀檢驗含三價鐵離子的二價鈷離子溶液，應用NaF作掩蔽劑。就是因為三價鐵與氟離子發生絡合反應。

2.沉淀反應。如檢驗某離子時，利用硫酸鹽作為鋇離子的掩蔽劑（見“常用掩蔽劑”條目），就是利用兩者結合生成沉淀以消除離子干擾。

3.氧化還原反應。如檢驗離子時，利用氨氣作為次氯酸根離子的掩蔽劑（見“常見掩蔽劑”條目），就是利用兩者發生氧化還原反應而消除次氯酸根離子的干擾。 

設備設計構造：

國內ru化機，臥室直聯結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要**的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的ru化頭及軸

IKN高剪切ru化機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。

密封：

國內ru化機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

IKN高剪切ru化機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以**承受16bar 壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口**壓力可以達到12-13 bar .

產品效果：

國內ru化機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻

IKN高剪切ru化機，可實現0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，**級分散ru化

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