詢價
- 類型：離子濺射儀
- 靶材：Au（標配）
- 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
- 主機規格：340mm×390mm×300mm
- 靶材尺寸：Ф 50mm
原理：
依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自
動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據電場中氣體電離
特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。
參數：
? 主機規格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）
? 靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）
? 靶材：Au（標配）
? 樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
? 靶材尺寸：Ф 50mm
? 真空指示表： 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
? 離子電流表： 大電流：50mA
? 定時器： 長時間：1-360s
? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? 高電壓： -2800 DCV
? 機械泵：標準配置 2L/S（國產 VRD-8）
用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
特點：
1、簡單、經濟、、外觀精美。
2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到純凈的涂層。
7、高壓輸出涂層牢固，特別適用于非導體材料實驗電極制作。
原理：
依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自
動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據電場中氣體電離
特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。
參數：
? 主機規格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）
? 靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）
? 靶材：Au（標配）
? 樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
? 靶材尺寸：Ф 50mm
? 真空指示表： 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
? 離子電流表： 大電流：50mA
? 定時器： 長時間：1-360s
? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? 高電壓： -2800 DCV
? 機械泵：標準配置 2L/S（國產 VRD-8）
用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
特點：
1、簡單、經濟、、外觀精美。
2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到純凈的涂層。
7、高壓輸出涂層牢固，特別適用于非導體材料實驗電極制作。離子濺射儀離子濺射儀離子濺射儀離子濺射儀
