JK-CH600190-XRD冷熱臺
JK-CH600190-XRD冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度范圍內的氣氛/真空測試環境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究，適配現有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛、理學等）。
產品需要與溫度控制器、致冷控制器（選配）配套使用，配套的上位機溫控軟件方便進行溫度設置及采集，提供的Labview Vis方便客戶進行定制化編程。
產品特點：
溫度范圍-190~600℃（選型）/RT~1000℃（選型）
溫度穩定性±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）
衍射角0～164°
X射線視窗Kapton膜
支持反射/透射模式
密腔室設計，可升級真空腔室（10^(-3) mBar）
可更換上蓋，作為普通冷熱臺使用
可調節高度，滿足不同厚度樣品測試更換上蓋，可用作光學冷熱臺，實現一機多用
詳細參數一覽表：
XRD原位冷熱臺 | JK-CH600190XV | JK-H1200XV | |
溫控模塊 | 冷熱方式 | 液氮致冷，電阻加熱 | 電阻加熱 |
| 溫控范圍 | -190～600℃ * | RT～1200℃ * | |
溫度穩定性 | ±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）* | ||
溫度分辨率 | 0.1℃ | ||
升降溫速率 | 0~30℃/min（可定點 / 程序段控溫） | ||
溫控方式 | PID | ||
溫度傳感器 | PT100 | 熱電偶 | |
光學特性 | 光路 | 反射 * | |
X射線透射膜 | Kapton膜 | ||
結構特性 | 樣品臺尺寸 | 23×23mm * | 12x12mm * |
樣品臺材質 | 銀質 * | 陶瓷 * | |
外形尺寸 | 100×100×73mm * | ||
腔室 | 真空 | ||
外殼冷卻 | 循環水 | ||
基本配置 | XRD原位冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1（低溫配置）、液氮罐x1（低溫配置）、定制支架x1、溫控軟件x1、循環水系統x1、連接管路若干 | ||
選配 | 電腦主機/定制溫控軟件/定制光學蓋板 | ||
備注 | 以上均為默認參數 * 為可定制項 | ||
其他可選型號 | CH400-100-X（-100~400℃） | ||
產品應用：
搭配理學X射線衍射儀 ↓
搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓
搭配布魯克X射線衍射儀 ↓
