| 品牌 | siyouyen | 型號 | 121 |
顯影機該機采用的單片微型機程序自動控制,顯影質量好工藝條件穩定適應宜科研和生產單位大規模集成電路和其它半導體器件的光刻工藝中作顯影之用。
本機顯影工藝采用了的噴霧方式,可根據工藝要求噴霧狀態電機的轉數,程序時間的工藝參數都可在很寬的數值范圍內調整,其程序為吸片、顯影、漂洗、干燥、復位。
采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整,是對較細線條電路采用此工藝可得到很高的效果。
本設備除能實現顯影工藝外亦可進行人工涂膠,工藝指標與勻膠技術相同
主要技術指標
型號:121
顯影工位:一個工位
程序時間:顯影1—99秒漂洗1—99秒干燥1—99秒
旋轉器轉數:500—8000轉/分(連續可調)
硅片直徑:Φ30—Φ75mm
凈化效果:100級(美國聯邦標準)
操作區風速:0.3—0.5米/秒
氣流狀態:垂直層流
外形尺寸:650Χ750Χ1620mm







