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四平太陽能超純水設(shè)備,四平電路板超純水設(shè)備,四平高純水制取設(shè)備
一.電子行業(yè)（特別是微電子行業(yè)）純水需求量大，其特點是水質(zhì)要求較高.

主要應(yīng)用于：
 
1.   大規(guī)模集成電路元器件的生產(chǎn)用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關(guān)用水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-1997）執(zhí)行。

2.  電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據(jù)電子元件生產(chǎn)工藝不同，其用水標(biāo)準(zhǔn)中（即GB/T11446.1-1997）有可為四級（電導(dǎo)率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM）.

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二.制水工藝：
    
1（雙級反參透）加ED1（電脫鹽）,核子級混床以及除TOC及紫外線出水指標(biāo)一般均達到18MO-CM以上。

2.反參透（1級或2級反參透）加ED1（電脫鹽），此工藝的優(yōu)點是操作簡單，無需樹脂再生工藝，且出水指標(biāo)一般均達到15MO-CM以上。

電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15us/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導(dǎo)率在10us/cm以下純水來清洗，電鍍行業(yè)水處理系統(tǒng)包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用廢水零排放系統(tǒng)。通常系統(tǒng)由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業(yè)對水質(zhì)的要求。出水水質(zhì)更好、更高!

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技術(shù)特征：
※制取電子級超純水
※可連續(xù)自動生產(chǎn)，不必停機再生
※出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法
※不需酸堿再生，不污染環(huán)境
※運行成本低，占地面積小

進水水質(zhì)要求：
※鐵離子： < 0.01mg/L
※游離氯： < 0.5mg/L
※硬度： < 1.0mg/L
※活性SiO2: < 0.5mg/L
※總有機碳： < 0.5mg/L
※PH： 5.0-9.0

性能指標(biāo)：
※出水電阻率： 10-18MΩ.cm
※SiO2： <10 ppb
※Na+： <10 ppb
※脫鹽率： >99.5%
※單臺產(chǎn)水量： 1-450 m3/h

應(yīng)用范圍：
※電力、石化及冶金行業(yè)的水處理除鹽
※電子行業(yè)超純水的制取
※醫(yī)藥行業(yè)超純水的制取

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公司名稱：
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