- 品牌/商標：View
- 企業類型：貿易商
- 新舊程度：全新
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀的詳細介紹
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀(VMM)是一家的AOI光學檢測設備供應商，生產適合過程控制測量應用的全自動高影像三坐標測量系統和顯微量測系統。
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀以其獨特的固定雙倍放大倍率光學系統、卓越的光源性能、強大靈活的軟件系統、先進的機動運行控制以及非線性偏差修正技術而專長。其高速度、高的測量性能持續受到全世界客戶的追崇，有效控制了客戶的成本支出。
加工制造和裝配持續朝著微型化、自動化發展，同樣，檢測技術也日趨要求高、高速度的檢測測量方案。很多測量技術都能提供高測量，但僅有部分能把準確的測量和高產能商化于一體。然而View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀卻將現代檢測需要的這一苛刻檢測性能要求集于一體，滿足全自動高速的過程測量應用。View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀以結果證明其言行，View以其可追述至美國國家標準技術研究院NIST的可靠的性能和服務于世界60多個國家，以所測得數據回饋客戶，將客戶風險降至，有效控制成本！測量儀器，View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀是您正確的選擇伙伴，您會體會到與眾不同的優勢！
View Micro-Metrology非接觸式光學三坐標測量儀適用范圍：
- 半導體封裝、
- SMT組裝、裝配
- 絲網印刷、PCB
- BGA&QFP、Bump on die、solder paste
- 引線架Leadframes、探針卡
- LED封測
- 光纖、
- photomask、MEMS
- 晶圓級檢測、測量等應用。
- 1976年推出世界臺高速影像測量光學三坐標；
- 花崗巖鑄鐵基底平臺，穩定可靠，運動平穩；
- 全鼠標、手柄操作，簡單易用；
- 亞微米分辨率
- 全自動尋邊功能
- 固定雙倍率光學鏡頭，1X/4X高低倍率瞬時切換，無需變焦，重復性高
- 1:10~1：50亞像素分辨率，保證高重復性和準確的弱邊尋邊
- 程控彩色環形表面光源PRL，LED輪廓光源，同軸光源，角度和方向可調控，增強表面檢測性能
- 的Rochi自動聚焦技術，增強Z軸聚焦性能
- 獨特的Z軸測高功能，可加裝激光測頭
- VMS全自動可編程影像測量、數據分析軟件，多種輸出方式（CAD、notepad、excel）
Pinnacle 250
◆ 測量系統尺寸(W x D x H)：795 x 953 x 1750 mm
◆ 線性馬達控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 2.5X標配鏡頭(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：25kg
適用于：微小、緊公差工件，高密度、復雜特征尺寸部件，如精密沖壓件以及芯片級封裝等。
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Benchmark 250 緊湊型臺式系統
◆ 測量范圍(XYZ)：300 x 150 x 150 mm◆ 分辨率：0.5um
◆ 測量系統尺寸(W x D x H)：720 x 775 x 873 mm
◆ 伺服馬達控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 1.0X標配鏡頭(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：25kg
適用于：注塑部件、機械部件、電子元件組裝、半導體封裝、光纖器件、磁盤介質基板、記錄芯片或 150mm 以內的晶圓產品。
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Benchmark 450 中行程測量系統
◆ 測量范圍(XYZ)：450 x 450 x 200 mm
◆ 分辨率： 0.5um
◆ 測量系統尺寸(W x D x H)：1210 x 1140 x 1700 mm
◆ 伺服馬達控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.5 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.5 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 1.0X標配鏡頭(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：65kg
適用：注塑部件、絲網印刷模具、印刷電路板、焊錫膏環氧膠點、精密機械部件
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Summit 450/600/800
◆ 測量范圍(XYZ)：450 x 450 x 150 mm
◆ 分辨率： 0.1um
◆ 測量系統尺寸(W x D x H)：1016 x 1650 x 1930 mm
◆ 伺服馬達控制、線性馬達驅動
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 6L/1000)um，- E1 (Z-axis) = (1.5 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 2.5X標配鏡頭(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：50kg
Summit 適用于: 較高需求的大型部件，如錫膏絲網印刷、藝術品、PCB、柔性電路以及微蝕刻部件。
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View Micro-Metrology可選配件：
◆ 物鏡：0.8x, 1.0x, 5x, 10x
◆ 光源： 多顏色（紅、綠、藍）可編程環形光PRL
◆ Rochi Grid自動聚焦
◆ 透鏡激光光源TTL
◆ Digital megapixel camera
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View Micro-Metrology(VMM)顯微測量系統MicroLine 和Precis200 主要用于測量半導體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對接誤差等)量測。
MicroLine-300是一款桌上型手動操作全自動CD測量系統。
主要技術參數：
◆ 測量范圍(XYZ)：200×200×25mm；
◆ 視場內測量：0.010um(100X 鏡頭)；
◆ 視場內測量范圍：0.5um~400um；
◆ 視場內 測量重復性(100x 物鏡)：晶圓上<0.010um(1δ)；
掩模板上0.005um(1δ)；
◆ 標配鏡頭10x，可選鏡頭：5X, 20X, 50X, 100X
◆ 可視化自動聚焦
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全新的Precis? 200是基于Micro-Metric的Innova晶圓量測系統開發而來，采用了VMM 公司先進的設計和技術。
主要技術參數：
◆ 測量范圍(XYZ)：200×200×5mm；
◆ 測量：E2 (XY plane) = 0.25 + 2L/1000
◆ 直流伺服馬達驅動
◆ 分辨率0.01um
◆ 視場測量和重復性：0.01 μm (100x)；
- Precis 主要用于以下應用：
- 亞微米測量：
◆ 微器件和電子元器件封裝、引線框
◆ 微型球狀引腳柵格陣列封裝
◆ 硬盤驅動臂、探針卡、刀片
- CD 和套刻測量：
◆ 線寬、涂覆層
◆ MEMS 器件、接觸窗、噴墨打印頭
◆ 硬盤驅動頭、磁頭等
For more details, pls refer to : www.viewmm.com
