儀器簡介：
X射線晶體分析儀采用PLC控制技術，該技術控制，干擾性好，
可實現高壓部分無故障率。PLC控制高 X射線晶體分析儀采用PLC控
制技術，該技術控制，干擾性好，可實現本系統地工作。
技術參數：
一、X射線發生器：
管電壓：10～60KV由PLC自動控制（1KV/step）；
管電流：2～80mA由PLC自動控制（1mA/step）；
管電壓、管電流穩定度≤0.3‰；
額定輸出功率：5KW；
PLC自動定時，時間任意選擇；
有無壓、無流、過壓、過流、過功率、無水、X射線管溫保護。
二、X射線護罩：
采用高密度、高透光性的鉛玻璃作為X射線護裝置,外射線量≤0.3μSv/h。
三、X射線管：額定功率：2kW
焦點尺寸（mm） 點焦點（1×1）; 線焦點(0.4×14);
靶材：可選（W、Cu、Fe、Co、Cr、Mo等）
四、高壓電纜：
高壓電纜是X射線管與高壓發生器的連接電纜線。高壓電纜與高壓發生器插
座、管頭配合良好、，燈絲接點良好、，無接觸不良情況。
介電電壓：100KV
長度：3米
五、可配相機：
勞厄相機（國產）
平板相機（）
主要特點：
TDF-3000型晶體分析儀采用立式管套，四個窗口可以同時使用，它可作為研究物質內部的結構，例如：單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質的結構和單晶位錯等。
