系統技術特點：
TDL 技術： 采用在針對 NH 3光譜范圍內的單線光譜技術，激光器篩選定位，避免其他氣體干擾，數據準確。
非接觸式監測 ：采用純光譜法， 無需采樣及預處理，實現和氣體非接觸監測。 
線監測代表性： 監測光路貫穿整個監測區域截面，所采集之數據較點式取樣法更具代表性。 
升級擴展容易： 可升級多個監測項目（達4種氣體），滿足不斷更新的監測要求；可擴展增加多個監測通道。
兼容各種場合： 該系統具備同一臺分析儀可兼容監測多個運用領域（煙囪、 煙道、廠房和廠區空氣質量等）的功能，即可同時監測從高濃度到低濃度的各個場合。
接口大 ：通過RS232 和激光分析儀進行通訊，同時支持 MODBUS RTU 等通訊協議，  配備標準化設計的輸入輸出模塊， 可電壓（ 0～10V ）和電流（4～20mA ）輸出，具有250 個通道容量。
校準確可信： 內置有校準池，用于分析儀進行內部參比校準；通過外置的驗證裝（美國署EPA推薦），作真正合國際水平要求的點、跨度驗證 ，用戶能真正檢驗儀器設備的準確性，亦可通過第三方單位對儀器的性能作出客觀鑒定；的數據質量在線檢功能，實時記錄并顯示每個數據的狀態；儀器穩定性高，點漂移、跨度漂移以月為單位每年作驗證。
日常維護量少： 帶有卡式型保護鏡及壓縮空氣保護裝置，可保持光學頭清潔，同時內部電子部件少，無機械式件，降低了系統故障率，大大減低日常維護量；大的遠程遙控/通訊軟件，可使得整個系統更易于日常維護。
運營成本低：系統備件消耗，維護費用及人工成本較低。

技術指標
用 途          電廠NH 3逃逸率的自動監測分析
測量技術    可調二管激光技術 可調二管激光技術 可調二管激光技術 可調二管激光技術 （TDL TDL技術 ）
監測項目    NH 3氣體
光 源          近紅外（NIR ）半導體激光器
環境溫度    分析儀環境溫度需穩定在18 ～25℃
掃描頻率    1000 次/秒
溫度準確     掃描溫度準確1/1000℃
計算方法     部分小二乘法（ PLS）
反應時間     小于1秒（用戶可選擇 1～30 秒的測量周期）
QA/QC         使用校準池可自動進行點、波長檢查和系統檢查；
                     使用外置驗證裝置可進行跨度和多點驗證 。
激光模塊     可多配置4塊激光器模，以監測多種組份（多組份技術）
測量光路     可增加到8條光路（多路技術）
輸出信號     RS232, 可擴展至模擬量輸出 
數字輸出     繼電器C:C （交流電壓250V ，電流 2A ）
光纖長度     光學纖長可至1km，通訊光纖長可至 2km
顯示界面     6.4 ″的LCD顯示面板
計 算 機     工控機標準，PC104
Modem       內置，兼容Hayes
硬盤容量     大于 2GB2GB
供電要求     交流電壓 115/230V （+15/-10 %），50/60Hz
用電功率     110W
尺 寸           （L × W  ×  H ）470 × 440 ×200 mm, 19" 機架
材 料           鋁/不銹鋼
重 量           20 公斤
保護等級     IP20