一、儀器用途

根據甲方的要求，儀器于鋼及低合金鋼

二、儀器特點

1、 帕邢-龍格架構法，真空光學系統 。

2、 儀器結構設計合理，電子系統采用國際標準機籠，高集成化電路設計。

3、 分析速度快、重復性好、穩定性好。

4、 采用高穩定的激發光源，激發頻率在150—500Hz之間變化，可的分析效果。

5、 采用高集成化的采集和控制系統，自動化程度高。

6、 測控系統采用單板機測量與控制，與計算機進行數據交換，了運行速度。

7、 通過計算機軟件來調整每個通道的光電管負高壓，通道負高壓分8檔調整，從而大大地通道的利用率和分析譜線的線性范圍在分析不同材質中的采用，減少了通道的采用數量，降低了成本。

8、可用于多種基體分析： Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等。

9、采用純中文Windows系統下的操作軟件，操作簡單易懂。

10、計算機軟件建有數據庫系統，方便了測量數據的查詢與打印，也可通過網絡遠程傳輸數據，方便快捷。

11、各項系統供電，組成單元，使用方便，維護簡單。

12、采用光學部分恒溫措施，了儀器的正常運行，從而降低了對環境的要求。

13、采用高直線電機進行入縫掃描，速度快，度高。

14、采用整體出射狹縫，方面增加通道。

三、技術指標

激發光源：

供電電壓：50Hz、220V&plun;1%

輸入功率：1.0KVA

充電電容：預燃6μF， 曝光1.5μF

峰值電流：預燃120A，曝光30A

主回路峰壓：300VDC(采用自動調整峰壓)

引燃電路：脈沖幅度：+15KV
            輔助間隙：采用隧道二管

          放電頻率： 400 Hz /200 Hz（可選擇150Hz--500Hz）

樣品臺分析間隙：4mm

分光儀：

分析波段范圍：160~550nm

機刻凹面光柵：曲率半徑  750mm

光電管：日本
  刻劃密度：2400線/mm
  刻劃面積：30×50mm2
  閃耀波長（）：300nm
  線色散：0.55nm/mm
  入射狹縫寬度：20μm

出射狹縫寬度：50μm、75μm

允許多通道：40個（可擴張到64個通道）

分光儀局部恒溫：35℃&plun;0.5℃

測控系統：

測控系統：采用單板機測量和控制，與計算機進行數據交換

測量方式：分段積分

積分電容容量：0.047μF

重現性：RSD≤0.2%

光電管高壓電源：
電壓：-1000V
穩定度：8小時0.5%

高壓調節：從-550V到-1000V變化，分8（0-7）檔調整

高壓設置：用戶通過計算機軟件改變

外形尺寸：

主機：950×1400×1100

重量：約450Kg