晶體分析儀能夠提供穩定的X射線光源，用來研究物質內部的微觀結構。
該儀器的特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統進行調流調壓，從而獲得一個強而穩定的射線光源。該機射線發生器功率大，整機穩定性高，操作簡單，分析速度快，，護完善，可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析儀，或用于其他用途的X射線光源。
X射線晶體分析儀廣泛用于冶金，機械，電子，化工，地質，建材，，能源，食品等科研，工礦企業和大專院校。
該儀器的特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統進行調流調壓，從而獲得一個強而穩定的射線光源。該機射線發生器功率大，整機穩定性高，操作簡單，分析速度快，，護完善，可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析儀，或用于其他用途的X射線光源。
X射線晶體分析儀廣泛用于冶金，機械，電子，化工，地質，建材，，能源，食品等科研，工礦企業和大專院校。
