新型MK52系列隔振控制平臺，合人體工學設計標準，適配于固有頻率模式下的各方面應用。Kinetic Systems, Inc.（簡稱KSI）通過使用Minus K負剛度隔振技術，能夠提供穩固緊湊的被動隔振平臺，擁有固有頻率、更高內結構頻率和優l良的垂直和水平隔振效率。升級的MK52系列能夠提供更好的客戶舒適度，增加額外的腿部空間。

Minus K垂直隔振器使用一個牽引彈簧和負剛度機械結構，能夠在不影響靜態載荷能力的情況下，較低的垂直剛性。

MK52系列是在MK26系列基礎上設計實現的，提出雙隔振器概念，能夠通過一個可擴展的工作平面實現優良的隔振效率。但調整到 0.5 Hz 固有頻率，系統的隔振效率可達93%，2 Hz；99%，5 Hz；99.7%，10 Hz。

MK52系列隔振平臺可以根據不同的應用需要，進行選擇性配置，客戶也可以根據需要進行定制隔振平臺。

MK52系列典型的隔振控制應用

MK52系列能和很多設備儀器搭配使用，且能其優良的性能表現，如高精分析天平，細胞接種，共聚焦顯微鏡，膜片箝，光學顯微鏡，圓晶針測，原子力顯微鏡等。同時在其他高端研究領域也有很廣泛的應用，如半導體過程處理，通信，航空航天和研究等。

產品概述和特點

 人體工學設計；

 固有頻率；

阻尼振動結構設計；

可定制配件；

無需提供氣源-易于使用；

可選桌面；

適配Cl100潔凈室；

 Cl10可選。

技術參數