四路質子混氣管式PECVD
四路質子混氣管式PECVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的紅心過來反應,因而這種CVD成為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD),內爐膛采用國內的氧化爐陶瓷纖維可以設備加熱效率,同事也可以延長儀器的使用壽命。
主要特點:雖環境溫度在100-300℃,但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解,離解和離化,從而大大了反應物的。因此,這些具有反應禍心個點中性物質很容易被吸附到較低溫度的基本表面上,發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜。
PECVD法是用500w交流等離子體與60*1200、多通道精密質量流量計和高真空系統氣體組成。
實驗機理:輝光放等離子體重,電子密度高,電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍。
本爐子分為四大部分:開啟式管式爐,等離子射頻電源(50-500w),真空泵和閥門、質子流量計。
















