儀器簡介：
SUPRA™系列產品配備有經過改進的第三代GEMINI®鏡筒、概念新穎的樣品臺、智能化硬件控制板和新型高效率的透鏡內二次電子探測器。
SUPRA™系列場發射掃描電子顯微鏡是卡爾蔡司半導體事業部的納米技術系統部向市場推出的功能多的場發射掃描電子顯微鏡。具有當前先進的儀器所具有的所有特征：如在圖像質量一流時的超高分辨率、工作電壓切換方便、出色的束流穩定性、全分析型樣品室、通過基于Windows® XP的SmartSEM™控制軟件實現簡便的操作等顯著特點。在研究和發展的應用中、失效分析和質量保證等方面，SUPRA™系列場發射掃描電子顯微鏡可提供迅速的、重復性好的、高可靠性的結果。
SUPRA™系列的多種儀器提供了全面的成像解決方案，可滿足半導體、材料分析、藥品制造和生命科學等領域中苛刻的應用要求。對于不導電樣品，采用可變壓力（VP）技術的增強型可變壓力二次電子探測器（VPSE）可以得到一流的圖像和分析結果。GEMINI®鏡筒具有無與倫比的成像能力，尤其是在工作電壓低于1kV時成像能力尤為出色，這就使得SUPRA™成為適合所有納米科學應用的成像工具。
技術參數：
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| 分辨率 | 1.3 nm @ 15 kV 2.1 nm @ 1 kV 5.0 nm @ 0.1 kV 2.0 nm @ 30 kV（VP模式） |
| 分辨率 | 1.0 nm @ 15 kV 1.7 nm @ 1 kV 4.0 nm @ 0.1 kV 2.0 nm @ 30 kV（VP模式） |
| 加速電壓 | 0.1 - 30 kV |
| 束流 | 4 pA - 10 nA（可選配20 nA） |
| 放大倍數 | 12 - 900,000x |
| 電子槍 | 熱場發射型 |
| VP真空度 | 2 - 133 Pa |
| 標準探測器 | In-lens二次電子探測器與樣品室內ET探測器 VP型號采用VPSE探測器 |
| 圖象處理 | 7種積分和平均模式 |
| 系統控制 | 基于Windows®XP的SmartSEM™ |
主要特點：
在整個電壓范圍內的超高分辨率，
電壓范圍至0.1 kV，所需調整極少,
高束流，高穩定性，
高效In-lens二次電子檢測器，可實現高分辨率的表面成像，
增強型VPSE探測器，可實現不導電試樣的成像
基于Windows® XP的SmartSEM™控制軟件，操作簡便
SUPRA™ 40/40VP
是SUPRA™系列中使用多的產品，具有大型樣品臺，VP工作模式，尤其適合于失效分析、過程控制和低溫應用。
SUPRA™ 55/55VP
SUPRA™系列中多功能的產品，具有超高分辨率與全面分析應用的能力。
WDS系列
適用于SUPRA™ 55、SUPRA™ 55 VP及ULTRA55
SUPRA™ 60/60VP
擁有大樣品室以及6英寸超優中心（super eucentric）樣品臺和8英寸樣品預抽室，適合對硅片進行全面的分析，也非常適合需要檢查大型樣品的用戶。
