深圳金東霖器是一家擁有CMI900維修以及CMI儀器、配件銷售資格的牛津代理商，擁有專職的CMI900維修以及CMI儀器的服務工程師，可為廣大的客戶解決CMI900維修以及CMI儀器相關問題。
CMI900鍍層膜厚測量儀，有著非破壞，非接觸，多層合金測量，高生產力，高再現性等優點的情況下進行表面鍍層厚度的測量  ，從質量管理到成本節約有著廣泛的應用。
波    長: 250-1100nm
　　厚度范圍: 10nm--250m
　　分 辨 率: 0,1nm
　　重 復 性: 0,3nm
　　準 確 率: <1[%] (100nm--100m)
　　測試時間: 100ms -- <1s
　　分析層數: 1-- 4
　　
入射角度: 90°
離光纖距離: 1-5mm
　　離鏡頭距離: 5mm-- 100mm
　　光斑點大小: 400m
　　微光斑手段: 與顯微鏡聯用,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnification and MFA-Adapter;
　　光纖長度: 2m (other lengthes on request)
　　接      口: U 1.1 (RS-232)
　　電源  需求: 12 VDC@1,2A, 220 VAC 50/60 Hz
　　
尺      寸: 180mm x 152 mm x 263mm
　　總      量: 3.5 kg>
膜厚儀的使用場合 ：薄膜工 業的在線過程控制等等許多場合。
　　膜厚儀主要應用于晶片或玻璃表面的介電緣層(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...); 晶片或玻璃表面金屬層(Ag, Al, Au, Ti, ...); DLC(Diamond  Like Carbon)硬涂層;SOI硅片; MEMs 厚層薄膜(100m up to 250m); DVD/CD 涂層; 光學鏡頭涂層; SOI硅片; 金屬箔; 晶片與Mask間氣層; 減薄的晶片(< 120m); 瓶子或器等帶弧度的涂層;