產(chǎn)品說(shuō)明：
. 真空離子鍍主要使用領(lǐng)域用途：
. 離子清洗、轟擊、刻蝕、沈積
. 離子加熱、滲透、注入
. 磁控濺射
. 電弧蒸發(fā)、離子化
. 相關(guān)領(lǐng)域的用途
. TIN鍍層技術(shù)指標(biāo)：
. 熔點(diǎn)：（Fusion）約2950℃
. 硬度：（Hardness）HV2500 kg/cm2
. 化學(xué)穩(wěn)定性：（Chemistry）不溶于大多數(shù)酸或鹼
. 熱分解溫度：（Heate resolve Temperature）900℃
. 動(dòng)磨擦系數(shù)：（Move rub Coefficient）0.11-0.15-TIN
. 耐腐蝕性：（Wearability）在人工汗液中，腐蝕度比不銹鋼、
鍍鉻層低、室溫下年腐蝕度幾乎為
. 真空離子鍍主要使用領(lǐng)域用途：
. 離子清洗、轟擊、刻蝕、沈積
. 離子加熱、滲透、注入
. 磁控濺射
. 電弧蒸發(fā)、離子化
. 相關(guān)領(lǐng)域的用途
. TIN鍍層技術(shù)指標(biāo)：
. 熔點(diǎn)：（Fusion）約2950℃
. 硬度：（Hardness）HV2500 kg/cm2
. 化學(xué)穩(wěn)定性：（Chemistry）不溶于大多數(shù)酸或鹼
. 熱分解溫度：（Heate resolve Temperature）900℃
. 動(dòng)磨擦系數(shù)：（Move rub Coefficient）0.11-0.15-TIN
. 耐腐蝕性：（Wearability）在人工汗液中，腐蝕度比不銹鋼、
鍍鉻層低、室溫下年腐蝕度幾乎為
