干法制備白炭黑在線研磨分散機(jī)

白炭黑是白色粉末狀X-射線無定形硅酸和硅酸鹽產(chǎn)品的總稱，主要是指沉淀二氧化硅、氣相二氧化硅和超細(xì)二氧化硅凝膠，也包括粉末狀合成硅酸鋁和硅酸鈣等。白炭黑是多孔性物質(zhì)，其組成可用SiO2·nH2O表示，其中nH2O是以表面羥基的形式存在。能溶于苛性堿和氫氟酸，不溶于水、溶劑和酸（氫氟酸除外）。耐高溫、不燃、無味、無嗅、具有很好的電絕緣性。

制備白炭黑的傳統(tǒng)方法是利用硅酸鈉、四氯化硅、正硅酸乙酯作硅源，除硅酸鈉以外，其他成本都很高。新方法采用廉價的非金屬礦作為硅源，大大降低了白炭黑的生產(chǎn)成本。

白炭黑傳統(tǒng)方法

1、氣相法主要為化學(xué)氣相沉積（CVD）法，又稱熱解法、干法或燃燒法。其原料一般為四氯化硅、氧氣（或空氣）和氫氣，高溫下反應(yīng)而成。空氣和氫氣分別經(jīng)過加壓、分離、冷卻脫水、硅膠干燥、除塵過濾后送入合成水解爐。將四氯化硅原料送至精餾塔精餾后，在蒸發(fā)器中加熱蒸發(fā)，并以干燥、過濾后的空氣為載體，送至合成水解爐。四氯化硅在高溫下氣化（火焰溫度1000~1800℃）后，與一定量的氫和氧（或空氣）在1800℃左右的高溫下進(jìn)行氣相水解；此時生成的氣相二氧化硅顆粒*細(xì)，與氣體形成氣溶膠，不易捕集，故使其先在聚集器中聚集成較大顆粒，然后經(jīng)旋風(fēng)分離器收集，再送入脫酸爐，用含氮空氣吹洗氣相二氧化硅至PH值為4～6即為成品。

CMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10

研磨分散機(jī)的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

IKN研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)：

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、

電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型

研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機(jī)選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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