- 電壓:380
- 功率:4kw
- 適用物料:粉體漿料
- 設(shè)備尺寸:450*350*750 mm
- 轉(zhuǎn)速:0-14000
芳綸纖維增強塑料(AFRP)均質(zhì)機,凱夫拉纖維專用研磨機,Twaron14000轉(zhuǎn)高剪切均質(zhì)機,聚對苯二甲酰對苯二胺高速研磨機,PPTA高剪切分散機,芳綸1414實驗室高剪切分散機,對位芳綸實驗室均質(zhì)機,聚間苯二甲酰間苯二胺(PMTA)均質(zhì)機,間位芳綸高速研磨設(shè)備,德國14000轉(zhuǎn)芳綸均質(zhì)機,芳綸實驗室轉(zhuǎn)工業(yè)化研磨設(shè)備
綸纖維全稱為芳香族聚酰胺纖維,與碳纖維、超高分子量聚乙烯纖維、玄武巖纖維一起被列為我國重點發(fā)展的四大高性能纖維。對位芳綸,即聚對苯二甲酰對苯二胺(PPTA),我國稱芳綸1414,間位芳綸,即聚間苯二甲酰間苯二胺(PMTA),我國又稱芳綸1313。芳綸纖維在我國航空航天、汽車、機電、建筑、體育等諸多領(lǐng)域運用廣泛,是未來生活中不可或缺的材料之一。
芳綸纖維在復合材料制備過程中分散不均是一個常見問題,直接影響材料的力學性能、均勻性和成品質(zhì)量。 以下從常見混合工藝問題及優(yōu)化方案兩方面展開分析,結(jié)合芳綸纖維的特性(高強度、高模量、表面惰性、易團聚)提供系統(tǒng)性解決方案。 一、常見混合工藝問題及原因分析 1.纖維團聚嚴重,難以打開 原因: 芳綸纖維表面光滑且惰性(含大量芳香環(huán)結(jié)構(gòu)),與基體樹脂的界面結(jié)合力弱,纖維間易通過范德華力或靜電吸附形成團簇。

化學改性多采用試劑刻蝕的方法,此方法一方面反應(yīng)速率不好控制,極易損傷纖維,降低纖維的本體強度,使復合材料的抗拉強度降低;另一方面由于所用試劑一般都有腐蝕性,對實驗條件要求較高,對環(huán)境也會產(chǎn)生污染,因而該處理方法使用范圍相對有限。
物理改性有等離子體技術(shù)、高能射線輻射和超聲波處理等方法,這些方法相對較環(huán)保,處理工藝簡單,效率高且安全,但也容易使纖維本體受到一定程度的破壞。等離子體主要利用空氣、氮氣、氧氣或者氨氣等為反應(yīng)氣體,通過等離子體處理形成電漿,對纖維表面形成刻蝕和接枝反應(yīng),但是該方法會破壞纖維表面完整性,同時存在活性退化效果,且對設(shè)備和操作環(huán)境要求比較高。
表面涂層改性同樣簡單可行,但涂層和纖維只是物理性的結(jié)合,與材料共混時還存在一定的缺陷。
IKN通過實驗將芳綸和環(huán)氧樹脂進過高剪切均質(zhì)機進行混合均勻,實驗表明這樣的芳綸纖維效果更好。
芳綸纖維納米沉析機CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

國內(nèi)納米沉析機的結(jié)構(gòu)大都都是直聯(lián)電機,納米沉析機的主軸和電機直連,電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速(高轉(zhuǎn)速不超過3000轉(zhuǎn))。而進口納米沉析機采用分體式結(jié)構(gòu),通過皮帶進行變速,國產(chǎn)設(shè)備由于結(jié)構(gòu)的設(shè)計缺失、機械密封技術(shù)的不足的原因,以及改進后成本大幅度的提高問題,一直無法實現(xiàn)高速納米沉析機的自主研發(fā)和生產(chǎn)。
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