品牌：恩科優（N＆Q）
　　型號：NXQ400-6
　　產地：美國
　　
　　一、產品簡介：
　　MYCRO原裝美國恩科優N＆Q系列光刻機（Mask　Aligner），是的光刻系統，在光刻領域有過35年的經驗，售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二管芯片、發光二體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國半導體公司、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學、臺塑、墨爾本大學、華盛頓州立大學、方大集團、大聯大集團、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。
　　  
　　  恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N＆Q4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統的操作性，的分辨率，均勻的光學系統，現代的接近式和接觸式光刻及的性價比，使恩科優光刻系統已經被各地眾多企業、研發中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統的；
　　
　　二、技術參數：
　　1、芯片尺寸：5mm~150mm的圓片/方片和不規則碎片（支持對不規則碎片的卡盤設計）；
　　2、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）；
　　3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；
　　4、分辨率：0.5um；
　　5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；
　　6、出射光強范圍：10mW/cm2~55mW/cm2＠405nm；
　　7、支持恒定光強或恒定功率模式；
　　8、曝光時間：0.1~999.9s；
　　9、對準：雙高清彩色CCD＋雙高清彩色器，對準可0.4微米內；
　　10、掩膜尺寸：2　x　2英寸到　9　x　9英寸（2　x　2英寸需要掩膜轉換器）；
　　11、光強均勻性Uniformity：
　　<±1%over　2"區域；
　　<±2%over　4"區域；
　　<±3%over　6"區域；
　　12、雙面光刻：具備背面紅外對準（IR　BSA）和光學背面對準（OBS　BSA），雙面對準≤2μm；
　　13、電源：高靈敏度光強可控電源。
　　
　　可選型號：
　　NXQ400-6
　　NXQ400-8
　　NXQ800-6
　　NXQ8006　Sapphire
　　NXQ800-8
　　
　　三、產品特點：
　　可選支持單面對準和雙面對準設計；
　　高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠修正的CCD鏡頭設計）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）；
　　高清彩色雙顯示屏；
　　氣動軸承導軌設計，高精準，低磨損，無需售后維護的；
　　具有自動執行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；
　　操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；
　　操控手柄調控模式的設計；
　　采用LED穿透物鏡照明技術，具有強對準亮度；
　　采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構；
　　衍射反射的光學光路設計；
　　帶保護功能的溫度和氣流傳感器；
　　全景準直透鏡光線偏差半角：<1.84度；
　　設備穩定性，耐用性；
　　
　　四、需要更詳細的恩科優光刻機產品資料
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　　長150mm　寬140mm　厚5mm
　　長140mm　寬65mm　厚5mm