性能特征:
全自動控制
冷卻系統((功率是6W)
低電壓濺射(100V,DC;每分鐘溫度升高不到2°C)
鍍膜厚度(2nm金粒)
的可重復性
鍍膜厚度20nm或200A(掃描電鏡)
微電子控制
三個靶臺同時濺射
聚碳酸脂外殼
儀器參數:
儀器尺寸:450mm(W)x 350mm(D)x 175mm(H)
工作腔室硼硅酸鹽玻璃:225mm(Dia.)x 125mm(H)
重量:24Kg
靶臺:3 x 60mm Dia.x0.1mm 厚
旋轉樣品臺:155mm Dia.距離靶臺40 to 50mm可調
真空范圍:ATM­1x10-2 mbar
鍍膜電流范圍:0-100mA
鍍膜速率:0-20nm/minute
濺射鍍膜時間:0-4 minutes
電源:230 volts 50Hz(8 AMP 包括泵)
維護:氬氣­通常 4 psi
真空泵(推薦)整套真空泵軟管和油氣過濾器135L/Min







