二、技術指標:
1.蒸鍍室限真空度:5×10-5Pa,系統漏率:1×10-7PaL/S;壓升率:停泵關機12小時后真空度小于等于5Pa;
2.真空腔從大氣到2×10-a時間小于3 0分鐘;
3.泄漏小于1×10-7PaL/S;
4.熱蒸發裝置為兩個蒸發舟,含加熱和控溫裝置,控溫要求:&plun;1℃程序可控;
5.公轉架轉速(即換位轉速)在0~30轉/分鐘,自轉架轉速在0-60轉/分鐘之間程序可調;
6.在腔體內的工件架須樣品的法線方向與鉛垂直方向的夾角在15°~45°之間連續可調,在調節桿上作出角度調節標記,以方便調節;
7.工件架上的樣品基片可以通過紅外燈進行加熱,加熱溫度從室溫到200℃程序可調可控;
8.基片架中心和蒸發源之間的距離的調節范圍為200~300 mm;在調節桿上標注出蒸發源口離樣品中心的垂直距離。
三、主要組成:
該蒸鍍設備主要由真空抽氣及真空測量系統、真空室系統、工件架系統、熱蒸發源系統、E型電子及控制電源系統、膜厚測試系統、擋板系統、烘烤照明系統、水冷卻循環及報警系統、電控及計算機控制系統、臺架系統、輔助系統等組成。







