IKN乳糖在線高剪切研磨分散機，設備制造

乳糖是人類和哺乳動物乳汁中特有的碳水化合物，是由葡萄糖和半乳糖組成的雙糖，分子式為C12H22O11。在嬰幼兒生長發育過程中，乳糖不僅可以提供能量，還參與大腦的發育進程。

乳糖主要用于制造嬰兒食品和配制藥物，例如制藥片、藥粉時用作稀釋劑。

理化性質

乳糖為D-葡萄糖與D-半乳糖以β-1,4鍵結合的二糖，又稱為1,4-半乳糖苷葡萄糖，屬還原糖。 [3] 從水溶液中結晶時帶有一分子結晶水。 

白色晶體或結晶粉末，甜度約為蔗糖的70/，比重1.525（20℃），在120℃失去結晶水。無水物熔點222.8℃，可溶于水，微溶于乙醇，溶于乙醚和氯仿。有還原性和右旋光性。可水解成等分子的葡萄糖和半乳糖。

α-乳糖及β-乳糖在水中的溶解度也隨溫度而異。α-乳糖溶解于水中時逐漸變成β-型。因為β-型乳糖較α-型乳糖易溶于水，所以乳糖*初溶解度并不穩定，而是逐漸增加，直至α-型與β-型平衡為止。甜煉乳中的乳糖大部分呈結晶狀態，結晶的大小直接影響煉乳的口感，而結晶的大小可根據乳糖的溶解度與溫度的關系加以控制. 

快速干燥乳糖溶液（如用噴霧干燥方法）所形成的乳糖結晶是無定型的玻璃態乳糖。一般乳糖溶液中的α-乳糖和β-乳糖呈平衡狀態存在，無定形玻璃態乳糖中保持了原來乳糖溶液中的α/β的比率。乳粉中乳糖的晶態就是無定形乳糖，當其吸收水分達8/時就結晶成為α-乳糖。 

上海IKN技術，獨特創意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結構，**的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

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