依肯拋光劑實驗室超微粉碎機，設備制造

拋光就是對工件表面進行加工，使其高度光潔。一般用附有細磨粉的軟質輪子高速旋轉來擦拭工作。此外還有液體拋光、電解拋光等方法。簡單說拋光劑就是使物件表面光亮的試劑。

拋光后的產品亮度均勻一致，且本藥劑的**處理溫度為中溫，無需加過高的溫度。

分類

懸浮液

磨料微粉與蒸餾水配成。粗拋光可選用6um粒度的磨料磨粉；精拋光可選用約1um粒度的磨料微粉。

膏狀研磨膏

由金剛石微粉、硬脂酸、三乙醇胺和肥皂乳劑配置而成。一般會根據各種拋光需求來選用不同粒度的金剛石微粉制成研磨膏。

噴霧狀

由一定粒度的金剛石微粉和某些輔助材料裝在壓力罐中制成。

CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，CM在摩擦狀態下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用先進幾何機構的研磨定轉子，更好的表面處理和**材料，可以滿足不同行業的多種需求。

超微粉碎機運行原理：

高剪切膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區進行研磨破碎。精磨區分三級，越向外延伸*級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到*級流體的方 向速度瞬間發生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的*小細度可達0.5um。

超微粉碎機主要用途

超微粉碎機適用于制藥、食品、化工及其它行業的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質的粉碎、乳化、均質和混合，主要技術指標已達到國外同類產品的先進水平。

IKN超微粉碎機結構：

三道磨碎區：*級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區。

我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在*級磨頭到另外*級磨頭形成研磨效果。

CM2000系列超微粉碎機的特點：

1、定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。