軟膠囊內容物研磨分散機，膠囊內顆粒研磨分散機，頭孢混懸液納米乳化機，德國藥用衛生級膠體磨，醫用納米均質機

軟膠囊內容物研磨分散機，此款醫藥改良型膠體磨不僅轉速高達14000rpm，并且在傳統膠體磨的基礎上加入了一組分散盤，先研磨后分散，物料粒徑更細，更穩定!

軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩定、易氧化額揮發的藥物。它密封嚴密、用量jingque、生物利用度高，藥物的穩定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明，口服制劑的生物利用度，以內容物為溶液的軟膠囊，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，zui差為片劑。

粉碎技術逐漸應用到軟膠囊領域，通過研究發現，藥材經過超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質度明顯改善，這些細粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當中，質量較為穩定。另外隨著軟膠囊行業的發展，對于膠囊的內容物的處理，出現的大量的設備，如:膠體磨、均質機、分散機等。這些設備通過對內容物的剪切，從內容物粒徑更加細化，粉末分散更加均勻。而應對這種情況，研發出了的設備，改良性膠體磨，該膠體磨結合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點，將二者一體，形成的設備，我們也將它定義為“研磨分散機”。

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大，效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好)

4 物料在研腔體的停留時間，研粉碎時間(可以看作同等的電機，流量越小，效果越好)

5循環次數(越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。剪切速率 s-1v 速率 m/s

g 定-轉子 間距 m

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。

IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V 3.14XD(轉子直徑)X轉速RPM/ 60

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是;在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是 轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗,工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出最終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的座擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有jingxi度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

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